PVD qoplama materiali

• Mis nikel (CuNi) purkash maqsadi

  Mis va nikel elementlarning davriy tizimida bir-biriga qo'shni bo'lib, atom raqamlari 29 va 28, atom og'irligi 63,54 va 68,71. Ushbu ikki element bir-biri bilan chambarchas bog'liq va suyuq va...

  Ko'proq o'qing
• Mis nikel titanium (CuNiTi) purkash maqsadi

  Mis nikel titanium (CuNiTi) qotishma maqsadi ochiq sariq rangga ega va shakli odatda to'rtburchaklardir. Shuningdek, biz uni mijozlar tomonidan taqdim etilgan chizmalar va maqsadli ma'lumotlarga...

  Ko'proq o'qing
• Temir xrom (FeCr) purkash maqsadi

  Temir xrom (FeCr) qotishmasining purkash maqsadi kulrang-qora rangga ega. Vakuumli indüksiyon eritish usuli bilan turli xil temir va xrom tarkibidagi temir xrom qotishma püskürtme nishonini ishlab...

  Ko'proq o'qing
• Alyuminiy titan (AlTi) purkash maqsadi

  Alyuminiy titan (AlTi) qotishma purkash maqsadlari HIP texnologiyasi bo'yicha ishlab chiqariladi, asboblarni qoplash va dekorativ qoplama uchun keng qo'llaniladi. Eritma texnologiyasi bilan...

  Ko'proq o'qing
• Temir marganets (FeMn) purkash maqsadi

  Temir marganets (FeMn) qotishmasining purkash maqsadi quyuq jigarrang rangga ega va temir va marganets materiallari aralashmasidan iborat. Uning nopoklik elementlari asosan uglerod, kremniy va...

  Ko'proq o'qing
• Nikel xrom (NiCr) purkash maqsadi

  Nikel Chromium (NiCr) Sputtering Target PVD texnologiyasi bo'yicha nikel xrom qotishma rezistiv plyonkani yotqizish uchun ishlatiladi, nikel xrom plyonkasi yuqori qarshilikka, past haroratli...

  Ko'proq o'qing
• Nikel mis (NiCu) purkash maqsadi

  Nikel mis qotishmasining maqsadini tayyorlash jarayoni metall xom ashyoni qotishma ingotlarga eritib, so'ngra mijozlarning talab qilinadigan shakli va hajmini qondirish uchun shakllantirish...

  Ko'proq o'qing
• Nikel temir (NiFe) purkash maqsadi

  Nikel-temir NiFe ning erish nuqtasi 1430-1480 daraja, zichligi esa 8,1-8,7g/sm3 orasida. Nikel-temir qotishmasi past chastotali yumshoq magnit material bo'lib, zaif magnit maydonda past...

  Ko'proq o'qing
• Nikel vanadiy (NiV) purkash maqsadi

  Yuqori toza nikel-vanadiy qotishma nishoni kumush-oq metall nashrida, zichligi: 6,11 g / sm3, erish nuqtasi 1910 daraja, qaynash nuqtasi 3407 daraja. Bu yarimo'tkazgichlar sohasida eng muhim yupqa...

  Ko'proq o'qing
• Kobalt Chromium (CoCr) purkash maqsadi

  Kobalt xrom (CoCr) qotishma maqsadi kumushsimon oq rang bo'lib, u asosiy komponentlar sifatida kobalt va xrom bilan qotishma hisoblanadi. 1929 yildan beri u stomatologik tiklash materiali sifatida...

  Ko'proq o'qing
• Kobalt temir (CoFe) purkash maqsadi

  Taxminan 50% kobaltni o'z ichiga olgan ferrokobalt qotishmasi yumshoq magnit materialdir. Ishlov berish samaradorligini oshirish uchun odatda 1,4 ~ 1,8% vanadiy (V) qo'shiladi, shuning uchun u...

  Ko'proq o'qing
• Kobalt temir bor (CoFeB) purkash maqsadi

  CoFeB yupqa plyonkasining paydo bo'lishi so'nggi o'n yilliklarda tadqiqot va sanoat dasturlarini qo'zg'atdi, magnit tasodifiy kirish xotirasi (MRAM) eng yorqin misol. O'zining foydali...

  Ko'proq o'qing