Seramika purkash maqsadlari

• 4N ZrO2 Sputtering nishoni Cu orqa plitasi bilan

  Bizning tsirkoniy dioksid purkash uchun mo‘ljallangan taglik plitalari yuqori-soflikdagi tsirkoniy dioksid materialidan ishlab chiqariladi va metall taglikka mahkam yopishtiriladi; bu dizayn tez...

  Ko'proq o'qing
• Cu Backplate bilan ZrC Sputtering Nishon

  Mis tayanch plitalari bilan zirkonyum karbid (ZrC) püskürtme nishonlarimiz yuqori{0}}tozalikdagi ZrC maqsadli material va mis tayanch o‘rtasida mustahkam bog‘lanish xususiyatiga ega. Ushbu dizayn...

  Ko'proq o'qing
• Ta 5at% Doped ZrC Sputtering Nishon

  Zirkonyum karbidning 5 atom foizli tantal nisbati bilan aniq qo'shilishi maqsadli materialning yuqori-haroratga chidamliligi, termal zarba qarshiligi va korroziyaga chidamliligini sezilarli...

  Ko'proq o'qing
• 4N IGZO Sputtering maqsadi

  Bizning 4N IGZO püskürtme maqsadlarimiz yanada barqaror va samarali püskürtme ishlashini ta'minlaydi. Yuqori darajadagi displey va yarimoʻtkazgichli ilovalar uchun ixtisoslashgan boʻlib, ular...

  Ko'proq o'qing
• 4N HfO2 nishoni Cu orqa plitasi bilan

  Mis tayanchli 4N HfO₂ Sputtering maqsadi 99,99% toza gafniy oksidi materialidan foydalanadi. Mis tayanch bilan birlashtirilgan, u mukammal issiqlik o'tkazuvchanligini ta'minlaydi va optik qoplama,...

  Ko'proq o'qing
• 4N HfO2 2% Ti Target bilan qo'shilgan

  2% Ti-kattalangan HfO₂ purkash maqsadi 2% titan bilan aniq qoʻshilgan yuqori-tozalikdagi gafniy oksidi substrati yordamida ishlab chiqariladi. Tarkibi bir xilligi va yuqori zichligi bilan ajralib...

  Ko'proq o'qing
• 4N HfO2 purkash maqsadi

  4N Yuqori-Soflikdagi gafniy dioksidini sepish maqsadi (99,99% soflik) — optik qoplamalar, yarimo‘tkazgichlar va aniq elektronikadagi ilovalar uchun javob beradi. Yuqori zichlik, bir xil...

  Ko'proq o'qing
• B4C Sputtering maqsadi

  Yuqori-tozalikdagi bor karbid xomashyosidan foydalangan holda, bu mahsulot ajoyib qattiqlik va mustahkam termal barqarorlikka ega bo‘lib, uni yarimo‘tkazgichlar ishlab chiqarish, optik qoplamalar...

  Ko'proq o'qing
• Moslashtirilgan HfC zarralari

  Moslashtirilgan HfC zarralarining tavsifi HfC zarralari odatda inert yoki qaytaruvchi atmosferada yuqori haroratlarda (1900–2300 daraja) gafniy dioksidi (HfO₂) bilan uglerod bilan reaksiyaga...

  Ko'proq o'qing
• Qalay oksidi (SnO2) purkash maqsadi

  Qalay oksidi maqsadi (SnO2) muhim noorganik metall bo'lmagan materialdir. Noyob fizik va kimyoviy xossalari tufayli u ko'plab yuqori texnologiyali sohalarda muhim rol o'ynaydi. Uning asosiy...

  Ko'proq o'qing
• Tantal oksidi (Ta2O5) purkash maqsadi

  Tantal oksidi purkash maqsadi yarimo'tkazgich, kimyoviy bug 'cho'kmasi (CVD), fizik bug 'cho'ktirish (PVD) displey va optik ilovalarda ishlatilishi mumkin. Biz raqobatbardosh narxlarda yuqori...

  Ko'proq o'qing
• Titan oksidi (TiO2) purkash maqsadi

  Titan dioksidi (TiO2) eng ko'p ishlatiladigan oq pigmentdir, masalan, bo'yoqlarda. U yuqori yorqinligi va juda yuqori sinishi indeksiga ega (rutil uchun 2,609).

  Ko'proq o'qing